殘留溶劑分析是藥品質量控製的重要組成部分，是相關企業及藥品檢驗實驗室的常規檢測項目。關於化藥中的溶劑殘留世界主要國家及組織都有相關規定及標準,如美國藥典(USP)通則<467>,歐洲藥典(EP)2.4.24,我國藥典(ChP2020)四部0861,以及ICH Q3C等,並都根據殘留溶劑對人體健康危害性的大小分為1類、2類和3類溶劑。

　　殘留溶劑的檢測通常使用頂空氣相色譜法(HS-GC-FID)或是頂空氣相色譜質譜法(HS-GC/MS)，然而GC-FID定性需要使用標準參比溶劑，當峰重疊時很難進行準確的定性。而GC/MS可以根據質譜圖信息對難以區分的目標峰和未知峰進行再一次的識別,在藥品質量控製及汙染原因調查等方麵具有明顯的優勢。另一方麵國家藥監局對於《藥品記錄與數據管理要求》的有關規定,加強藥品研製、生產、經營、使用活動的記錄和數據管理，確保有關信息真實、準確、完整和可追溯,因此對分析儀器的數據完整性也有了更高的要求。

典型HS-GC-FID/MS分析水溶性藥品中|類和2類殘留溶劑

按照USP467操作步驟A製備1類、2A類、2B類標準溶液和測試液等水溶性樣品溶液，其中2A類標液中添加叔丁醇(t-BuOH和環基甲基迷(CPME)(t-BuOH 和CPME是ICH Q3C（R8）中的兩類溶劑）。並按照步驟A的分析條件分別進行HS-GC-FID和HS-GC/MS測試,兩種檢測器使用相同的色譜柱。

　　儀器配置:HS-20 NX+GCMS-OP2020 NX+LabSolutions GCMS

　　恒線速度模式保證高分離效果的同時完美匹配GC-FID和GC/MS方法保留時間,GC分析條件轉移無壓力。

在兩種不同檢測器中使用相同的色譜柱並以恒定的線速度模式進行分析,可以使所有分析物的峰保留時間相匹配,進而很好的驗證FID檢測到的峰的質譜圖,定性更準確。同時由上述圖2可知，添加到2A類標準溶液中的高關注度目標物t-BuOH和CPME(紅色標記的化合物)與其他分析物達到很好的分離，恒線速度模式完美應對USP467及藥典等標準方法。